晶圆盒清洗机

富嘉达全自动 FOUP 晶圆盒清洗机为半导体洁净制程专用全自动清洗设备,适配 6 寸、8 寸、12 寸 Smif Foup、Fosb、Cassette 全类型晶圆料盒,集成清洗、漂洗、热风烘干一体化工艺,可高效高标准去除料盒内外颗粒杂质,满足半导体严苛洁净生产标准,全程自动化运行,适配洁净车间环境,配套完善水电气配套方案,支持按需定制清洗节拍与工艺参数。

一、设备产品概述

FOUP 晶圆盒清洗机是富嘉达专为半导体行业研发的全自动洁净清洗设备,全面兼容 Smif Foup、Fosb、Cassette 全系列晶圆料盒,整合清洗、纯水漂洗、热风烘干成套工艺,高效率、高质量完成料盒 Particle 颗粒清洗,保障半导体晶圆承载容器洁净度,适配 6 寸、8 寸、12 寸半导体制程生产线使用。

二、核心设备验收洁净标准

  • 洁净外观要求:FOUP 清洗完成后,料盒内、外表面无残留脏污、粉尘、油污;

  • 颗粒管控指标:料盒清洗后采用 100ml 纯水浸润检测,粒径>0.1μm 颗粒增量低于 2000 个 /ml;

  • 自动化运行:全流程自动化作业,最大限度减少人工介入,规避人为二次污染;

  • 工艺可调适配:可根据不同规格料盒灵活调整清洗时长,成品洁净标准以双方签核技术方案为准;

  • 规格定制适配:可依据客户提供签核资料适配对应清洗产品规格;

  • 节拍灵活设定:清洗、干燥节拍可根据料盒材质、干燥难易程度自定义设定。

三、基础安装与场地要求

  • 设备搬入:设备外形尺寸、通道预留要求详见配套设备设计图纸;

  • 安放场地:室内洁净车间,环境温度控制 0~40℃;

  • 安装布置:设备四周预留≥1m 空间,用于日常检修、设备保养。

四、水电气配套参数明细

表格

序号项目设备需求参数连接规格连接点位
1主电源3 相 5 线、50Hz、380V,设备总功率约 36Kw;设备主进线由客户负责对接电线接入电柜开关端子设备电控柜
2压缩空气供气压力 0.4~0.6MPa,流量 400NL/min,气源由客户自备φ12mm 气管设备后侧 / 侧部
3排气系统排风量 300-500m³/H;客户负责施工连接室外排风管道交机前提供配套 φ 排风管道设备顶部 / 侧部

五、应用范围

本设备广泛应用于半导体 6 寸、8 寸、12 寸生产线,针对 Foup、Fosb、Cassette 晶圆承载盒进行颗粒级精密清洗,适配晶圆制造、封装测试等洁净生产车间。


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