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晶粒二流体清洗机电 源：AC380V/50Hz，三相五线制；晶粒二流体清洗机装机功率：约9KW(最大)；晶粒二流体清洗机给排水：总排水1"，总进水3/4"；用水量：600～800L/H，压力：0.3～0.5MPa；电阻率：≥17MΩ；压缩空气用量：10～30M3/H；压力：0.45～0.7MPa；过滤方式：1μm*1，0.01μm*1；晶粒二流体清洗机废气总排放量：900M3/H(风机用户自配)；深圳富嘉达超声波设备公司专业生产:晶粒二流体清洗机、晶粒清洗机设备、晶粒二流体离心清洗机、晶粒清洗机、晶粒离心二流体清洗机制造商
FJD-1000LXG晶粒二流体清洗机-深圳富嘉达晶粒清洗机设备：
该全自动封闭式晶粒二流体清洗机二流体离心清洗设备主要由：清洗工作台、喷淋清洗腔、减振装置、储液槽、二流体喷淋系统、二流体喷嘴、离心甩干机构、控制系统、机架等组成。整机为了便于运输，机体底部装有万向活动脚轮及支撑脚杯。
晶粒二流体清洗机该清洗机是一个全自动的清洗机，清洗介质为二流体（高纯水与压缩空气），另增加氮气流量控制；清洗机工作时操作者将要清洗的工件放到工作台上，固定好后，人工按下清洗按钮，可视气缸门将自动关闭，对工件进行清洗及甩干，当时间到后，可视气门自动开启，就完成了整个清洗过程，除上下料外，整个清洗、甩干过程为全自动运行，无人工干预。清洗甩干后操作员取料，完成整个清洗工序作业；
晶粒二流体清洗机电 源：AC380V/50Hz，三相五线制；
晶粒二流体清洗机装机功率：约9KW(最大)；
晶粒二流体清洗机给排水：总排水1"，总进水3/4"；
用水量：600～800L/H，压力：0.3～0.5MPa；电阻率：≥17MΩ；
压缩空气用量：10～30M3/H；压力：0.45～0.7MPa；过滤方式：1μm*1，0.01μm*1；
晶粒二流体清洗机废气总排放量：900M3/H(风机用户自配)；
半导体晶粒二流体清洗机清洗区域为全封闭、全不锈钢结构； 清洗腔体内壁用SUS316镜面板制作，外壳用SUS304镜面板制作； 清洗腔体操作面设有透明的气缸门； 清洗后的清洗液将直接排掉；
晶粒二流体清洗机半导体行业本设备具备处理效果好、使用方便等特点，外形美观、结构合理、使用寿命长、经济环保。
全国服务热线:0755-2799-3344/134-8068-0074
晶粒二流体清洗机电 源：AC380V/50Hz，三相五线制；
晶粒清洗机设备、半导体晶粒二流体离心清洗机晶粒二流体清洗机装机功率：约9KW(最大)；
晶粒清洗机、半导体晶粒离心二流体清洗机给排水：总排水1"，总进水3/4"；
晶粒二流体清洗机用水量：600～800L/H，压力：0.3～0.5MPa；电阻率：≥17MΩ；
二流体清洗机压缩空气用量：10～30M3/H；压力：0.45～0.7MPa；过滤方式：1μm*1，0.01μm*1；
半导体晶粒二流体清洗机电 源：AC380V/50Hz，三相五线制；
半导体晶粒清洗机设备、晶粒二流体离心清洗机晶粒二流体清洗机装机功率：约9KW(最大)；
半导体晶粒清洗机、晶粒离心二流体清洗机给排水：总排水1"，总进水3/4"；
半导体晶粒二流体清洗机用水量：600～800L/H，压力：0.3～0.5MPa；电阻率：≥17MΩ；
半导体二流体清洗机压缩空气用量：10～30M3/H；压力：0.45～0.7MPa；过滤方式：1μm*1，0.01μm*1；
摄像头模组二流体清洗机、晶圆二流体清洗机、晶粒二流体清洗机、半导体晶圆晶粒二流体清洗机
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晶粒二流体清洗机电 源：AC380V/50Hz，三相五线制；
晶粒清洗机设备、晶粒二流体离心清洗机晶粒二流体清洗机装机功率：约9KW(最大)；
晶粒清洗机、晶粒离心二流体清洗机给排水：总排水1"，总进水3/4"；
晶粒二流体清洗机用水量：600～800L/H，压力：0.3～0.5MPa；电阻率：≥17MΩ；
二流体清洗机压缩空气用量：10～30M3/H；压力：0.45～0.7MPa；过滤方式：1μm*1，0.01μm*1；
工作时间：周一至周六（8:00-18:00）
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